其中納米技術(shù)的興起，打開(kāi)了熒光分析的又一個(gè)新的領(lǐng)域。由于納米材料具有很好的熒光性，寬激發(fā)，窄發(fā)射等優(yōu)良的光譜特點(diǎn)，使其成為熒光分析中的重要的研究對象，引起了研究者的興趣。

 

　　該領(lǐng)域主要用于食品中礦物質(zhì)及金屬元素、氨基酸、維生素、菌類(lèi)污染、添加劑、防腐劑、食品包裝有害物質(zhì)、農藥殘留等的分析檢測。特別是與HPLC、TLC、FIA等技術(shù)的結合可以更好的達到食品中各種物質(zhì)的檢測效果。目前我國食品標準日趨化，臺式x熒光光譜儀對于食品分析的要求也越來(lái)越趨向于靈敏和微量化。熒光分析正可以滿(mǎn)足這方面的分析要求。

 

　　藥物分析領(lǐng)域可以利用熒光分析進(jìn)行藥物的有效成分鑒定、藥物代謝動(dòng)力學(xué)研究、臨床藥理藥效分析等。藥物熒光分析可以分為三類(lèi)：直接熒光分析、間接熒光分析和納米熒光分析。常規熒光分析法zui早被應用于分析抗瘧疾藥物奎寧，隨著(zhù)熒光分析法的發(fā)展，其應用范圍日益擴大，目前被廣泛用于抗菌素藥物、止痛藥、鎮靜劑、止血藥等的分析。

 

　　光譜儀器領(lǐng)域主要利用熒光分析檢測環(huán)境中的物質(zhì)的含量，主要是對水體、礦石和土壤進(jìn)行檢測。隨著(zhù)有機化工、石油化工、醫藥工業(yè)的發(fā)展， 以及農藥（ 殺蟲(chóng)劑、除草劑等） 的大量使用， 有機化合物對環(huán)境的危害和污染日益嚴重。

 

　　高靈敏度和穩定的分離效果使我國原子熒光光譜儀獲得了客戶(hù)的支持，而近年來(lái)提升了該種裝置的分析能力和成熟的分析技術(shù)更是讓臺式x熒光光譜儀受到了客戶(hù)的喜愛(ài)，所以客戶(hù)在了解了原子熒光光譜儀找哪家好后都紛紛選擇這種儀器。而在該種原子熒光光譜儀的應用之中，也需要掌握相應的操作事項，按照儀器說(shuō)明書(shū)的要求仔細的進(jìn)行處置才能夠發(fā)揮其功能。

 

　　*物質(zhì)吸收電磁波之后受到激發(fā)可以展示不同的波長(cháng)，而原子熒光光譜儀則利用這種輻射的波長(cháng)進(jìn)行檢測，借助可靠可信的原子熒光光譜儀無(wú)疑能夠提高了元素的檢定能力。此種原子熒光光譜儀本身展示了更好的優(yōu)勢和穩定的功效，而下文就原子熒光光譜儀的優(yōu)勢為大家做出簡(jiǎn)單介紹。

 

　　光譜儀器分析樣品必須根據分析目的，在能代表平均化學(xué)成分的部位進(jìn)行取樣。判斷手持式光譜儀分析結果是否發(fā)生偏差的一般方法是：對所選試樣進(jìn)行手持式光譜儀分析后再作化學(xué)分析，然后對相應的兩種分析數據的差值進(jìn)行統計檢驗。在檢驗結果不一致的情況下，要考慮化學(xué)分析結果的正確性。同時(shí)，對于手持式光譜儀分析方法，也要考慮標準樣品和控制樣品的選用合適與否、分析樣品激發(fā)得好壞和定量方法正確與否等。

 

　?。?）選用的標準樣品和控制樣品不合適時(shí)，有系列標準樣品、控制樣品和分析樣品的組成顯著(zhù)不同、冶煉過(guò)程和非金屬夾雜物不同以及標準值不準等而引起的影響。對這種情況需要重新選定系列標準樣品、控制樣品，或者研究校正方法。

 

　?。?）樣品分析結果不好時(shí)，可能是取樣方法不合適和制備時(shí)被污染等。當分析樣品產(chǎn)生成分偏析和缺陷時(shí)，要重新考慮取樣方法。至于制備時(shí)被污染，需要重新考慮研磨材料、工具和制備方法，查明原因。

 

　?。?）定量方法產(chǎn)生誤差的主要原因有工作曲線(xiàn)繪制有誤和校正共存元素影響的方法不合適。要重新考慮工作曲線(xiàn)或增加標準樣品數目，通過(guò)實(shí)驗予以適當校正。標準樣品和分析樣品之間由于內標元素的差別和共存元素給分析結果帶來(lái)偏差時(shí)，應預先求出這些元素的含量變化給分析結果造成的偏差，并予以校正。

 

　　光譜儀器進(jìn)行爐前鐵水化學(xué)元素含量分析，是近年來(lái)鑄造行業(yè)爐前鐵水化學(xué)成份控制的主要手段。光譜儀分析具有很多優(yōu)點(diǎn)：速度快，從試樣的制作到光譜儀分析結束僅需2~3分鐘；度高，當鐵水化學(xué)元素含量在光譜儀分析范圍內時(shí)分析偏差≤1%;分析化學(xué)元素種類(lèi)全，可根據需要分析任何化學(xué)元素：操作簡(jiǎn)單，只要經(jīng)過(guò)短期培訓即會(huì )操作。

 

　　雖然X熒光光譜儀分析偏差正常規定≤1%,但我們在實(shí)際操作中偏差常大于1%達到5%甚至更高。這種偏差常發(fā)生在：試樣不同部位的光譜儀分析、同一個(gè)試樣在不同的光譜儀器上分析、同一個(gè)試樣用手工和光譜儀對比方分析。針對偏差我們進(jìn)行了研究分析，總結出主要由以下幾方面原因造成的以及相應的改正措施。