EXF鍍層測厚儀原子的特性由原子序來(lái)決定，亦即質(zhì)子的數目或軌道中電子的數目，即如圖所示特定的X-射線(xiàn)能量與原子序間的關(guān)系。K輻射較L輻射能量高很多，而不同的原子序也會(huì )造成不同的能量差。

 

　　覆層厚度的測量方法主要有：楔切法，光截法，電解法，厚度差測量法，稱(chēng)重法，X射線(xiàn)熒光法，β射線(xiàn)反向散射法，電容法、磁性測量法及渦流測量法等。這些方法中前五種是有損檢測，測量手段繁瑣，速度慢，多適用于抽樣檢驗。

 

　　EXF鍍層測厚儀采用X熒光分析技術(shù)，可以測定各種金屬鍍層的厚度，包括單層、雙層、多層及合金鍍層等，可以進(jìn)行電鍍液的成分濃度測定。

 

　　EXF鍍層測厚儀是能譜分析方法，屬于物理分析方法。樣品在受到X射線(xiàn)照射時(shí)，其中所含鍍層或基底材料元素的原子受到激發(fā)后會(huì )發(fā)射出各自的特征X射線(xiàn)，不同的元素有不同的特征X射線(xiàn)；探測器探測到這些特征X射線(xiàn)后，將其光信號轉變?yōu)槟M電信號；經(jīng)過(guò)模擬數字變換器將模擬電信號轉換為數字信號并送入計算機進(jìn)行處理；計算機*的特殊應用軟件根據獲取的譜峰信息，通過(guò)數據處理測定出被測鍍層樣品中所含元素的種類(lèi)及各元素的鍍層厚度。

 

　　EXF鍍層測厚儀能檢測出常見(jiàn)金屬鍍層厚度，無(wú)需樣品預處理；分析時(shí)間短，僅為數十秒，即可分析出各金屬鍍層的厚度；分析測量動(dòng)態(tài)范圍寬，可從0.005μm到60μm。